知識 ニキビ跡のレーザー治療における安全性の確保
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

ニキビ跡のレーザー治療における安全性の確保


レーザーパラメータのカスタマイズは、単なる推奨事項ではなく、安全性の必須事項です。 これは、患者の肌のメラニン濃度がレーザーエネルギーの吸収量を直接決定するため、必要不可欠です。Fitzpatrickスキンタイプに基づいて設定を調整しないと、治療が損傷的なものになり、火傷、水ぶくれ、または永続的な色素沈着の変化を引き起こす可能性があります。

核心的な現実: フラクショナルレーザー治療の目標は、表面を損傷することなく真皮の深部でコラーゲンを刺激することです。肌の色が濃いほどレーザーエネルギーをより積極的に吸収するため、パラメータは逆に調整する必要があります。肌の色が濃くなるにつれて、同じ安全マージンを維持するために、エネルギー強度を一般的に下げる必要があります。

メラニンと吸収の物理学

メラニンヒートシンク

メラニンは、多くのレーザーシステムにとって主要な標的(発色団)です。Fitzpatrickスキンタイプが高い(IV~VI)患者では、表皮にかなりの量のメラニンが含まれています。

この高いメラニン含有量は、レーザーエネルギーのスポンジのように機能し、熱を急速に吸収します。パラメータが下げられない場合、表皮は深い傷跡組織に向けられたエネルギーを吸収し、深いリモデリングではなく表面の火傷を引き起こします。

熱緩和時間

異なる肌タイプは、熱を放散するために異なる時間が必要です。濃い肌は通常、より長いパルス幅(幅)を必要とします。

パルス幅を長くする(例:最大30ms)ことで、レーザーはよりゆっくりとエネルギーを供給します。これにより、メラニンが豊富な表皮はエネルギーのスパイク間に冷却され、熱損傷を防ぎながら、下の傷跡を治療することができます。

重要なパラメータ調整

エネルギー密度(フルエンス)の調整

フルエンスは、レーザービームの「強度」を表します。FitzpatrickタイプI~IIIの場合、高性能システムはコラーゲン生成を最大化するために、より高いエネルギー密度(例:20~25 J/cm² または約80 mJ)を安全に使用できます。

逆に、FitzpatrickタイプIV以上の場合、エネルギー密度はしばしば低くする必要があります(例:8~14 J/cm² または約60 mJ)。この低減は、炎症後色素沈着(PIH)につながる熱の「過剰吸収」を防ぎます。

パス頻度の制御

レーザーが同じ領域を通過する回数は熱を蓄積させます。明るい肌は通常、深い組織のリモデリングを達成するために3回のスキャンパスに耐えることができます。

濃い肌の場合、臨床プロトコルではしばしばこれを2回のパスに制限します。パスを制限することで、肌への累積熱負荷が減少し、水ぶくれや傷跡のリスクが大幅に低下します。

トレードオフの理解

「安全性対攻撃性」のバランス

濃い肌のニキビ跡治療には、固有のトレードオフがあります。攻撃的な設定は明るい肌にはより速い結果をもたらしますが、濃い肌には許容できないリスクをもたらします。

濃い肌の治療は、しばしば「低速かつ低頻度」のアプローチを必要とします。つまり、より多くのセッションで低いエネルギー設定を使用します。タイプIVまたはVの患者で高エネルギーで結果を急ごうとすると、回復が困難な有害事象につながることがよくあります。

色素変化のリスク

不適切なパラメータ選択の最も一般的な合併症は、炎症後色素沈着(PIH)または色素低下(白い斑点)です。

PIHは、熱損傷がメラノサイトを刺激し、色素の過剰生産を引き起こす場合に発生します。これは技術的には防御メカニズムですが、臨床的にはニキビ跡を暗い斑点で置き換え、治療の目的を損ないます。

目標に合わせた正しい選択

肌の完全性を損なうことなく最適な結果を達成するには、治療計画は患者の特定の生理機能に合わせる必要があります。

  • 患者がFitzpatrickタイプI~III(明るい肌)の場合:攻撃的なリモデリングを優先し、より高いフルエンスと複数のパスを使用して、より少ないセッションで深い傷跡を効率的に治療できます。
  • 患者がFitzpatrickタイプIV~VI(濃い肌)の場合:PIHの誘発を避けるために、より低いエネルギー密度、より長いパルス幅、およびより少ないパスを使用して、表皮保護を優先する必要があります。たとえ総セッション数が多くなるとしてもです。

ニキビ跡治療の成功は、レーザーのパワーだけでなく、そのパワーが患者の生物学的許容範囲にどれだけ精密に調整されているかにかかっています。

概要表:

Fitzpatrickスキンタイプ メラニン含有量 推奨フルエンス(エネルギー) パルス幅 目標戦略
タイプI~III 高(例:20~25 J/cm²) 攻撃的なリモデリング
タイプIV~VI 低(例:8~14 J/cm²) 長(最大30ms) 表皮保護

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参考文献

  1. Mixed-technology fractional Er:Glass and CO2 laser for the treatment of facial acne scars. DOI: 10.1016/j.jaad.2018.05.780

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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