知識 CO2レーザーによる円形脱毛症の治療にコンピューター走査システムが必要なのはなぜですか?正確な皮膚治癒を実現
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

CO2レーザーによる円形脱毛症の治療にコンピューター走査システムが必要なのはなぜですか?正確な皮膚治癒を実現


コンピューター走査システムが不可欠である主な理由は、人間のエラーを排除し、完璧な均一性を確保することです。炭酸ガス(CO2)レーザーの連続波を用いて円形脱毛症を治療する場合、スキャナーはビームの配置を自動化し、不均一な皮膚表面全体にエネルギーが均等に分布することを保証します。この自動化により、アブレーション(削り取り)深度を正確に制御でき、手動操作で頻繁に発生する危険なエネルギーの重なりや照射漏れを防ぐことができます。

スキャナーは重要な調整装置として機能し、生のレーザーエネルギーを、病変組織を除去しつつ、治癒に必要な皮膚付属器を厳密に保護する制御されたツールに変換します。

手動塗布の問題点

重なりと照射漏れの排除

手動レーザー操作では、人間の手は完璧な一貫性を維持できません。これにより、意図しないエネルギーの重なりが発生し、過度の熱損傷や深い瘢痕を引き起こします。

逆に、手動での動きは、レーザーが皮膚に当たらない照射漏れをしばしば引き起こします。円形脱毛症の文脈では、照射漏れのある領域は病変組織を残したままになり、病変の即時再発につながります。

複雑な解剖学的構造への対応

円形脱毛症は、しばしば大きな皮膚のひだや間擦部に現れます。これらの不均一な輪郭を手動でナビゲートすると、アブレーション深度が不均一になります。

コンピューター走査システムは、皮膚の地形に関係なく均一なエネルギー分布を保証するために領域をマッピングします。

アブレーション深度の精密制御

変異細胞の除去

治療の目的は、変異ケラチノサイトを含む損傷した表皮の標的アブレーションです。これらの細胞は、皮膚の接着性を損なう分子欠陥を示します。

スキャナーは、健康な下層組織に副次的損傷を引き起こすことなく、これらの特定の細胞を破壊するのにちょうど十分な深さまでレーザーが浸透することを保証します。

再生のための基盤の保護

回復の成功は、「再上皮化」にかかっています。これは、生存している皮膚付属器(毛包や汗腺など)から新しい皮膚が再生することです。

スキャナー制御の欠如による過度のレーザー浸透は、これらの付属器を破壊します。走査システムは、正常で健康な表皮の再生のための基盤を作成する特定深度を維持します。

不正確さのリスクの理解

熱損傷の結果

連続波CO2レーザーは高エネルギーを供給します。スキャナーによる変調がないと、熱の蓄積は皮膚の熱緩和時間を容易に超える可能性があります。

この過剰な熱は、標的領域を超えた壊死(組織死)につながり、治癒プロセスを著しく複雑にします。

接着機能への影響

最終的な目標は、皮膚の接着機能を改善することです。不均一なアブレーションは、構造的完全性を回復できない治癒済み組織と損傷組織のモザイク状の結果をもたらします。走査システムは、治療された表面全体が均一に治癒することを保証し、将来の摩擦や外傷に対する一貫した構造的バリアを提供します。

目標のための正しい選択

円形脱毛症のレーザー治療を評価する際、コンピューター走査システムの存在は交渉不可能な安全要因です。

  • 安全性と治癒が主な焦点の場合:再生に必要な皮膚付属器を破壊する熱重なりを防ぐために、システムがスキャナーを使用していることを確認してください。
  • 有効性と治癒率が主な焦点の場合:照射漏れのリスクを排除し、すべての変異ケラチノサイトの徹底的な除去を保証するために、スキャン配信に依存してください。

精度は単なる技術的特徴ではなく、健康な皮膚機能を回復するための生物学的要件です。

概要表:

特徴 手動レーザー操作 コンピューター走査システム
エネルギー分布 一貫性がなく、重なりやすい 自動化されており、完全に均一
アブレーション深度 可変的で、深い瘢痕のリスクがある 正確な制御で、皮膚付属器を保護する
カバレッジ 照射漏れ/再発のリスクがある 病変組織の100%マッピングカバレッジ
熱管理 過度の熱蓄積のリスクが高い 壊死を防ぐための制御されたパルス配信
治癒結果 モザイク状の回復、治癒が遅い 迅速な再上皮化と接着機能の回復

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参考文献

  1. Becker nevus treatment with combination of CO2 fractional laser. DOI: 10.1016/j.jaad.2015.02.1061

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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