知識 高周波レーザートーニング処置で大きなスポットサイズが必要なのはなぜですか?低フルエンスで安全性と有効性をマスターする
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

高周波レーザートーニング処置で大きなスポットサイズが必要なのはなぜですか?低フルエンスで安全性と有効性をマスターする


高周波レーザートーニングは、熱損傷を最小限に抑え、炎症反応を防ぐために、大きなスポットサイズと低エネルギー密度に依存しています。この特定の構成により、施術者は皮膚バリアを損なうことなく、または表皮を過熱することなく、1回のセッションで複数の治療ラウンドを安全に実行できます。

コアの要点 大きなスポットサイズを利用することで、臨床医は表面エネルギーを低く抑えながら、より深い組織への浸透を達成でき、表皮を効果的に保護できます。ただし、この技術の安全性は、レーザーの出力安定性に完全に依存します。低エネルギーの変動であっても、永久的な色素喪失を引き起こす可能性があります。

大きなスポットサイズの物理学

散乱制御による深さの向上

大きなレーザースポットサイズ(14 mmなど)は、光が組織を通過する方法を根本的に変えます。これにより、浅い層の散乱光が、小さなスポットよりも効果的に中心の治療領域内に留まります。

深い強度を最大化する

光は外側に散乱するのではなく中心にとどまるため、大きなスポットは、表面エネルギー量が同じであっても、皮膚の深いレベルでの実際の光強度を高めます。

低エネルギー密度(フルエンス)の役割

表皮の保護

大きなスポットは、エネルギーを皮膚の深部に効率的に送達できるため、必要な熱しきい値を達成するためにデバイスは表面でのエネルギーを少なく必要とします。

熱負荷の軽減

表面エネルギー密度(フルエンス)を下げることで、表皮への熱負荷が軽減されます。これは、表面の火傷を防ぎながら、深い毛包や色素を効果的に治療できるため、安全性にとって重要です。

目標:炎症の最小化

頻繁な介入を可能にする

この構成の主な臨床目標は、治療中の炎症反応を軽減することです。熱損傷を低く抑えることで、皮膚は1回のセッションで高周波介入の複数のラウンドに耐えることができます。

穏やかな刺激

積極的なリサーフェシングとは異なり、トーニングは段階的な改善を目指します。大きなスポットと低エネルギーは、体の急性創傷治癒反応を引き起こすことなく、一貫した刺激を可能にします。

トレードオフの理解:安定性のリスク

蓄積の危険性

低エネルギーは一般的に安全ですが、リスクがないわけではありません。頻繁で過剰なエネルギーの蓄積は、低設定であっても、メラノサイト(色素産生細胞)を損傷する可能性があります。

安定性の重要な必要性

主な参照資料には、重要な注意点があります。レーザー機器は、極めて高い出力安定性を維持する必要があります。

不安定性の結果

レーザーの出力が変動すると、意図せずにエネルギーのスパイクが供給される可能性があります。この不安定性は、メラノサイトが単に調節されるのではなく破壊されることによって発生する点状色素脱失(永久的な白い斑点)などの合併症につながる可能性があります。

目標に合わせた適切な選択

レーザートーニングの機器またはプロトコルを選択する際は、ビーム品質とエネルギー制御のバランスに焦点を当ててください。

  • 患者の安全を最優先する場合:メラノサイトの損傷や色素脱失を防ぐために、実績のある出力安定性を備えた機器を優先してください。
  • 深部組織治療を最優先する場合:利用可能な最大のスポットサイズを使用して、表面フルエンスを低く保ちながら、浸透の深さを最大化してください。
  • ダウンタイムの最小化を最優先する場合:赤みや腫れにつながる炎症反応を引き起こさないように、低エネルギー密度設定に厳密に従ってください。

レーザートーニングの成功は、使用するパワーの量ではなく、デリバリーシステムの安定性と効率性によって定義されます。

概要表:

特徴 臨床的利点 なぜ重要なのか
大きなスポットサイズ 深さを向上させ、散乱を低減する 表面エネルギーを少なくして、より深いターゲットに到達する。
低フルエンス 表皮を保護する 火傷や刺激を防ぐために、熱負荷を最小限に抑える。
高安定性 色素脱失を防ぐ 永久的な色素喪失を避けるために、一貫したエネルギーを確保する。
低熱負荷 炎症を最小限に抑える 1回のセッションで複数の治療ラウンドを可能にする。

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参考文献

  1. Yisheng Wong, Chee Leok Goh. Hypopigmentation Induced by Frequent Low-Fluence, Large-Spot-Size QS Nd:YAG Laser Treatments. DOI: 10.5021/ad.2015.27.6.751

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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