知識 活動性ニキビ治療中に、アブレイティブフラクショナルCO2レーザーで低エネルギー・低密度設定が推奨されるのはなぜですか?
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

活動性ニキビ治療中に、アブレイティブフラクショナルCO2レーザーで低エネルギー・低密度設定が推奨されるのはなぜですか?


低エネルギー・低密度設定を使用する主な理由は、患者の回復時間を管理可能に保ちながら、活動性ニキビに関連する炎症反応を効果的に再編成することです。具体的には、10~12.5 mJのエネルギーレベルと5%の密度を採用することで、施術者は積極的なリサーフェシングに必要な長期間のダウンタイムなしに、炎症性病変を大幅に治療することができます。

コアの要点 活動性ニキビの治療には、治療効果と組織保護の間の繊細なバランスが必要です。エネルギーと密度を制限することにより、レーザーは炎症環境を変化させて病変を解消し、患者の日常生活を妨げるのではなく、回復がわずか3~5日間のウィンドウ内に収まるようにします。

低設定治療のメカニズム

炎症反応の再編成

高熱によって深いコラーゲンを再形成することを目的とする瘢痕治療とは異なり、活動性ニキビの治療は炎症プロセス自体に焦点を当てます。フラクショナルCO2レーザーは、ニキビの炎症サイクルを破壊する微小熱治療領域を作成します。

低エネルギー設定(10~12.5 mJ)では、レーザーはこの生物学的再編成を引き起こすのに十分な強度がありますが、炎症を悪化させないように穏やかです。この標的アプローチは、活動性病変の数を減らすのに役立ちます。

MTZによる健康な組織の保護

レーザーは微小熱治療領域(MTZ)を作成することによって機能します。これらは、無傷の健康な皮膚の広い領域によって隔てられた、治療された組織の狭い列です。

低密度(5%)を使用することにより、皮膚表面の大部分は損傷を受けません。これらの健康な組織の「貯蔵庫」は、表皮再生を加速し、治療された列を迅速に治癒するために重要です。

臨床的利点と回復

3~5日間の回復ウィンドウ

高密度設定は、しばしば長引く赤み、かさぶた、および社会的なダウンタイムにつながります。しかし、推奨される低エネルギープロトコルは、これらの副作用を管理可能な期間に制限します。

患者は通常、3日から5日間のみ赤みとかさぶたを経験します。これにより、通常の活動への迅速な復帰が可能になり、職業人や学生にとって実行可能な処置となります。

全身不耐症の解決策

多くの患者は活動性ニキビに苦しんでいますが、全身薬(経口イソトレチノインや抗生物質など)の副作用に耐えられません。

この低エネルギーレーザープロトコルは、ニキビを制御するための物理的なモダリティを提供します。医薬品を体内に導入することなく、皮膚をきれいにすることの有効な代替経路を提供します。

トレードオフの理解

活動性ニキビ vs 瘢痕修正

活動性ニキビの治療とニキビ跡の治療を区別することが重要です。補足データによると、瘢痕修正は、深いコラーゲン合成を刺激し、崩れた組織を持ち上げるために、より高いエネルギー密度(例:15~24 mJ/cm²)を必要とすることがよくあります。

これらの高い「瘢痕」設定を活動性の炎症性ニキビに適用すると、状態が悪化したり、過度の外傷を引き起こしたりする可能性があります。低エネルギーアプローチは、深いへこみを埋めるというよりも、活動性疾患状態の管理に特化しています。

合併症の最小化

炎症を起こした皮膚に積極的な設定を使用すると、合併症のリスクが高まります。これらには、炎症後色素沈着過剰(PIH)や肥厚性瘢痕が含まれる場合があります。

低密度設定は、治癒プロセスをサポートするために十分な周囲組織を無傷で残すことにより、これらのリスクを軽減します。この保守的なアプローチにより、慢性的な炎症によって損なわれた皮膚でも、治療が安全であることを保証します。

目標に合わせた適切な選択

レーザーパラメータを選択する際には、患者の現在の皮膚の状態が戦略を決定します。

  • 活動性炎症性ニキビの治療が主な焦点である場合:ダウンタイムを最小限(3~5日)に抑えて病変を解消するために、低エネルギー(10~12.5 mJ)と低密度(5%)を優先してください。
  • 深い古い瘢痕の再形成が主な焦点である場合:瘢痕組織を持ち上げて埋めるために必要なコラーゲン合成を刺激するには、より高いエネルギー設定が必要ですが、回復期間は長くなります。

最終的に、低設定により、皮膚の生理機能を圧倒することなく、ニキビの病態を治療できます。

概要表:

特徴 活動性ニキビプロトコル ニキビ跡プロトコル
エネルギー設定 10~12.5 mJ 15~24 mJ
密度 5% 高密度(>10%)
主な目標 炎症の再編成 深いコラーゲン再形成
回復時間 3~5日 7~14日
PIHのリスク 非常に低い 中程度から高

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参考文献

  1. Laís Lopes Almeida Gomes, Dieter Manstein. 40725 Fractional CO2 laser for active acne treatment: A Case Series. DOI: 10.1016/j.jaad.2023.07.199

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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