知識 顔の傷跡レーザー治療における局所麻酔薬の必要性とは?高エネルギーパラメータで結果を向上させる
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

顔の傷跡レーザー治療における局所麻酔薬の必要性とは?高エネルギーパラメータで結果を向上させる


顔の傷跡レーザー治療の前に局所麻酔クリームを塗布する主な技術的な必要性は、臨床的に効果的なエネルギーパラメータの使用を可能にすることです。適切な麻酔なしでは、患者は傷跡組織を蒸発させ、コラーゲンリモデリングを誘導するために必要な高エネルギー密度と深いパルス幅に耐えることができません。

コアの要点 痛みの緩和は主観的な利点ですが、局所麻酔薬の客観的な技術的機能は、治療フィールドを安定させることです。これにより、術者は、患者の不耐性や不随意な動きのために安全に適用することが不可能であったであろう、最適な高強度のレーザー設定を利用できます。

効果的なエネルギーパラメータの実現

熱しきい値の克服

高エネルギーのフラクショナルアブレイティブレーザーは、顕著な光機械的影響と熱損傷を生成することによって機能します。

傷跡組織を効果的にリモデリングするには、レーザーは患者の自然な痛みのしきい値を超える特定のエネルギーレベル(ジュール)を供給する必要があります。

深いパルス幅の促進

効果的な傷跡修正には、しばしばレーザーが真皮の深くまで浸透する必要があります。

リドカインなどの高濃度製剤のような局所麻酔薬は、これらの下層の皮膚層に到達するために必要な「深いパルス幅」への耐性を高めます。

処置の精度の確保

不随意な動きの排除

顔のレーザー処置では、健康な組織や敏感な構造(目など)への損傷を避けるために精度が重要です。

突然の痛みは、不随意な顔のしかめや頭の動きを引き起こし、不均一なエネルギー出力や偶発的な損傷につながる可能性があります。

治療プロトコルの標準化

臨床医は、最大の効果のために設計された所定の臨床パラメータに基づいて操作します。

適切な麻酔は、処置中の中断や患者の苦痛のためにエネルギー設定を治療域以下のレベルに下げる必要なしに、これらのプロトコルを完了できることを保証します。

適用の生理学

神経伝導のブロック

クリームは、表皮に浸透して末梢神経終末からの痛みの伝達を一時的にブロックすることによって機能します。

この化学的ブロックは、レーザーエネルギーの急速な放出中の熱感覚の伝達を防ぎます。

閉塞とタイミングの必要性

皮膚にクリームを塗るだけでは、深いレーザー作業には技術的に不十分です。麻酔薬は、傷跡が存在する真皮層に浸透する必要があります。

技術的なプロトコルでは、麻酔薬が必要な深さに到達することを保証するために、閉塞(ラップ)下で厚い層(通常1 mm)を30〜60分間塗布する必要があります。

トレードオフの理解

不十分な持続時間の危険性

処置前の塗布時間が短縮された場合、麻酔薬は表皮の表面のみを麻痺させる可能性があります。

これにより、真皮の深部が敏感になり、レーザーが傷跡のリモデリングに必要な深さに浸透したときに患者が鋭い痛みを感じるようになります。

均一性対局所的な「ホットスポット」

塗布は物理的に均一である必要があり、しばしば金属スパチュラのような平らな道具が必要です。

不均一な塗布は、不十分な鎮痛の局所的な領域をもたらし、処置の流れを妨げる予測不可能な痛みの「ホットスポット」を作成します。

あなたの目標に合った選択をする

処置の技術的な成功を確実にするためには、準備はレーザー設定自体と同じくらい重要です。

  • 主な焦点が深い傷跡のリモデリングである場合: 60分間の完全な塗布時間と閉塞を確保し、レーザーが不耐性なしに深い真皮層に到達できるようにします。
  • 主な焦点が患者の安全である場合: 突然の痛みの突破による不随意な動きを防ぐために、均一な1 mmの塗布厚を確認します。

レーザー手術における技術的な有効性は、安定した、耐容性のある患者基盤に依存します。

概要表:

技術的要因 麻酔薬塗布の影響 傷跡治療における役割
エネルギーパラメータ 高ジュール密度と深いパルス幅を可能にする 硬い傷跡組織の蒸発に不可欠
患者の安定性 不随意なしかめ/動きを防ぐ 処置の精度と安全性を確保する
作用深度 閉塞により真皮神経終末に到達する 深いコラーゲンリモデリングを促進する
臨床プロトコル 中断なしに配信を標準化する 治療域以下のレベルへの設定低下を防ぐ

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参考文献

  1. Beom Jun Kim, Eun Soo Park. Combination treatment for post-traumatic facial scars: 1,064-nm Nd:YAG picosecond laser with micro-lens array after fractional ablative CO<sub>2</sub> laser. DOI: 10.25289/ml.2022.11.2.92

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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