知識 マイクロニードリング中に10〜15回の多方向ローリングパスが必要なのはなぜですか?均一なコラーゲン密度を達成する
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

マイクロニードリング中に10〜15回の多方向ローリングパスが必要なのはなぜですか?均一なコラーゲン密度を達成する


主な目標は均一な密度です。 10〜15回の多方向ローリングパスを実行することは、マイクロニードルが未処理の隙間を残さずにターゲット領域を完全にカバーすることを保証するために必要です。この特定のパス数は、皮膚表面全体にわたって均一で一貫したコラーゲン合成をトリガーするために必要な機械的刺激点の必要な量を生成します。

マイクロニードリングの効果は、深さだけでなく、累積密度に依存します。10〜15回の多方向パスがないと、治療は組織刺激に大きな隙間を残し、まだらなコラーゲン誘導と最適でない結果をもたらします。

カバレッジ密度のメカニズム

未処理の隙間の防止

マイクロニードリングデバイスの1回のパスは、独立したマイクロ損傷の列を作成します。これにより、ニードルパス間に健康な皮膚の広い領域が未処理のままになります。

皮膚を単なる線ではなく、まとまりのある表面として治療するには、これらのパスの密度を増やす必要があります。10〜15回のパスは、これらの隙間を埋め、領域全体が治療されることを保証するために必要な閾値です。

均一なメッシュの作成

目的は、シームレスなマイクロチャネルの「メッシュ」を作成することです。ローリング動作を繰り返すことで、個別の穿刺線が均一な刺激のフィールドに変換されます。

この均一性は、美容上の結果にとって重要です。刺激がまだらであれば、その後の治癒と質感の改善も不均一になります。

コラーゲン誘導の最適化

刺激閾値への到達

コラーゲン合成は、機械的損傷に対する生物学的応答です。主な参照文献は、このプロセスを効果的に活性化するには、特定の量の「機械的刺激点」が必要であることを示しています。

10回未満のパスでは、治療領域全体でこの生物学的閾値をトリガーできない場合があります。高周波パス設計により、皮膚はリモデリングを開始するために十分な信号を受け取ることが保証されます。

多方向性の役割

単に一方向に前後に転がすだけでは不十分です。プロトコルでは垂直、水平、および斜めのパスが必要です。

この多方向アプローチにより、ニードル挿入点が効率的に重なることが保証されます。ターゲットゾーンのすべての平方ミリメートルを治療する確率を最大化します。

トレードオフの理解

過小治療のリスク

最も一般的な落とし穴は、時間を節約したり、即時の赤みを減らしたりするために早すぎるのをやめることです。しかし、過小治療は、皮膚のストリップのみがリモデリングされる「島」効果を作成します。

これにより、肌の質感が不均一になり、治療されたマイクロゾーンと未治療のマイクロゾーンの間に目に見える格差が生じます。

一貫性と速度

10〜15回のパスプロトコルを遵守すると、処置時間が長くなります。しかし、この投資は効果のために交渉の余地がありません。

パスを減らしてプロセスをスピードアップすると、マイクロチャネルの密度が低下します。マイクロニードリングでは、密度は結果の均一性と直接相関します。

目標に合わせた適切な選択

マイクロニードリングセッションを計画または評価する際には、パス数が臨床目標とどのように一致するかを検討してください。

  • 均一な肌の質感が主な焦点である場合:まだらな治癒につながる「スキップ」領域を防ぐために、10〜15回のパスプロトコルに厳密に従ってください。
  • コラーゲン生成の最大化が主な焦点である場合:明確な構造変化に必要な高密度を達成するために、技術に垂直、水平、および斜めの動きが含まれていることを確認してください。

均一なカバレッジは、表層の刺激と変革的な構造治療を区別する決定的な要因です。

概要表:

パスタイプ 目的 失敗の結果
垂直 アライメントと初期チャネル 組織刺激のギャップ
水平 クロスカバレッジ密度 まだらなコラーゲン誘導
斜め 多方向オーバーラップ 目に見える質感の格差
合計10〜15回 生物学的刺激閾値 最適でない治癒応答

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参考文献

  1. Flaviane Mattos Assunção Tatiane Martins Isabel Fernandes. MICROAGULHAMENTO NO TRATAMENTO DE ESTRIAS ALBAS: APLICAÇÃO EM SÉRIE DE CASOS. DOI: 10.5281/zenodo.6877408

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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