知識 低エネルギーレーザーパラメータにおけるパルススタッキング技術の役割は何ですか?深さと治療の安全性を最大化する
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

低エネルギーレーザーパラメータにおけるパルススタッキング技術の役割は何ですか?深さと治療の安全性を最大化する


パルススタッキング技術は根本的に変化させます、単一の解剖学的部位に複数の連続した低エネルギーパルスを適用することにより、レーザーエネルギーの配信を。皮膚を貫通するために単一の高強度バーストに依存するのではなく、この構成により熱エネルギーが徐々に蓄積し、創傷の表面直径を増加させることなく、真皮の深くまでアブレーションと凝固効果を駆動できます。

コアの要点 低エネルギーパラメータを使用したパルススタッキングは、治療深度とスポットサイズを分離するための洗練された方法を提供します。高エネルギー単一パルスに関連する側方熱損傷のリスクを大幅に低減しながら、皮膚の引き締めに必要な深部組織の収縮を実現します。

垂直エネルギー配信のメカニズム

熱エネルギーの蓄積

低エネルギーパラメータで構成された場合、パルススタッキングは、即時の気化ではなく、累積熱によって皮膚を治療します。

正確に同じ点に高速で連続したパルスを発射することにより、レーザーは組織内に熱エネルギーを蓄積させます。

スポット直径の維持

この方法の重要な利点は、一貫したアブレーション直径を維持できることです。

エネルギーが増加するにつれて損傷の幅がしばしば広がる高エネルギー単一パルスとは異なり、パルススタッキングは損傷コラムを狭く保ちます。

これにより、治療はターゲットの垂直組織コラムのみに影響を与え、周囲の領域に不必要に広がることはありません。

深部真皮効果の達成

凝固深度の向上

この文脈でパルススタッキングを使用する主な目的は、より深い真皮層に到達することです。

蓄積されたエネルギーは、はるかに高いエネルギー設定で達成されるものと同等の深さでのアブレーションと凝固の両方を促進します。

この深部加熱は、効果的な皮膚の引き締めに必要な組織収縮を刺激するために不可欠です。

側方熱損傷の低減

高エネルギー単一パルスは、しばしば過度の側方熱損傷を引き起こし、ターゲットゾーンの周囲の健康な組織を損傷します。

パルススタッキングは、エネルギーを制御された小さなパケットで配信することにより、このリスクを軽減します。

このアプローチは、施術者が上部皮膚層の完全性を損なうことなく、または広範囲の表面外傷を引き起こすことなく、深く治療することを可能にする、より安全な代替手段を提供します。

トレードオフの理解

高エネルギーのリスク vs 低エネルギーの制御

ここでのトレードオフは、電力と精度の関係を中心に展開します。

単一の高エネルギーパルスに依存すると、即時の深さは保証されますが、精度が犠牲になることが多く、結果として、より広く、より損傷の大きいフットプリントになります。

逆に、パルススタッキングでは、効果的に熱を「スタック」するために、パルスシーケンスの持続時間中に正確なアライメントを維持する技術が必要ですが、クリーンで安全な垂直損傷プロファイルでユーザーに報酬を与えます。

目標に合わせた適切な選択

フラクショナルCO2プロセス用のレーザーパラメータを構成する際には、エネルギーレベルとパルス配信の間の相互作用を理解することが不可欠です。

  • 安全性の最大化が主な焦点の場合:低エネルギーのパルススタッキングを利用して、熱損傷の直径を制限しながら、実質的な効果を達成します。
  • 深い皮膚の引き締めが主な焦点の場合:スタックパルスの累積効果に依存して、高エネルギーブラストのリスクなしに深部真皮層で凝固を誘発します。

パルススタッキングは、表面の安全性と深部組織の有効性の間のギャップを効果的に埋めます。

概要表:

特徴 高エネルギー単一パルス パルススタッキング(低エネルギー)
エネルギー配信 即時の高強度バースト 累積的な高速パケット
アブレーション直径 より広く、エネルギーとともに増加 狭く、一貫している
深度制御 電力強度によって達成 熱蓄積によって達成
側方損傷 周囲の損傷のリスクが高い リスクが大幅に低減
主な利点 より速い処置時間 安全性と精度の向上

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参考文献

  1. Marcos Matias Motta, Paulo Kharmandayan. Lower energy and pulse stacking. A safer alternative for skin tightening using fractional CO2 laser. DOI: 10.1590/s0102-865020160010000005

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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