知識 755nmダイオードレーザーシステムがサポートする高パルス周波数(10Hz)は、クリニックの運営効率をどのように最適化しますか?
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技術チーム · Belislaser

更新しました 2 days ago

755nmダイオードレーザーシステムがサポートする高パルス周波数(10Hz)は、クリニックの運営効率をどのように最適化しますか?


10Hzのパルス周波数は、クリニックの生産性を向上させる重要な要素です。これにより、レーザーハンドピースを皮膚上で素早く動かしながら連続的なエネルギー供給を維持でき、施術者が治療をどれだけ速く行えるかが根本的に変わります。この機能により、低い繰り返し率に伴う遅延が解消され、患者の処理能力とサービス品質の両方に直接影響します。

主なポイント:10Hzの周波数は、広範囲の身体領域の治療における運営上のボトルネックを解消します。エネルギーギャップを生じさせることなく高速な滑走速度を可能にすることで、背中や脚などの領域の治療時間を大幅に短縮し、一貫した結果に必要な均一な熱蓄積を確保しながら、機器の稼働率を向上させます。

ビジネス効率の向上

広範囲治療の加速

10Hzシステムの主な運営上の利点は、広大な身体領域を効率的に治療できる能力です。 レーザーは1秒間に10回発射されるため、施術者は背中や脚などの広い領域を、低周波システムよりも短い時間で治療できます。

機器の稼働率向上

速度は資産の利用率に直接相関します。 セッションに必要な時間を短縮することで、クリニックは機器の稼働率を向上させることができます。これにより、同じ機械を使用して1日あたりの患者予約数を増やし、ハードウェアへの投資収益率を最大化できます。

臨床の一貫性の向上

カバレッジギャップの解消

遅いレーザーでハンドピースを速く動かすと、「点線」効果が生じ、パルス間に未処理のギャップが残ります。 10Hzの周波数は、高速スキャン速度でもエネルギーカバレッジが確実かつ連続的であることを保証します。これにより、皮膚表面のエネルギーギャップを防ぎ、ターゲット領域のすべてのインチが効果的に治療されることを保証します。

スムーズな熱蓄積の確保

効率は速度だけでなく、効果的なエネルギー供給でもあります。 高パルスレートは、ターゲット組織へのスムーズな熱蓄積を促進します。この熱蓄積は、二重モードレーザー効果に不可欠であり、生物学的ターゲットが一貫して破壊されることを保証します。

均一なエネルギー分布

コリメートされたハンドピースと組み合わせると、高周波動作はビームアプリケーションの品質を向上させます。 この組み合わせにより、レーザーエネルギーが皮膚表面により均一に分布することが保証されます。これにより、あるスポットに過剰に蓄積したり(ホットスポット)、別のスポットにエネルギーが不足したりするリスクを防ぎます。

考慮すべき運営上のトレードオフ

オペレーターのスキルの必要性

10Hzは速度を可能にしますが、オペレーターは一貫した滑走ペースを維持する必要があります。 オペレーターがレーザーを10Hzで発射している間に遅すぎると、単一の領域に過剰な熱蓄積のリスクがあります。逆に、あまりにも無謀に動かすと、最良の結果に必要な熱の「スタッキング」が損なわれる可能性があります。

クリニックのための戦略的応用

755nmダイオードレーザーシステムの価値を最大化するには、運営アプローチを特定の臨床目標に合わせます。

  • 患者の処理能力が最優先の場合:広範囲パッケージ(脚、背中)に10Hz機能を利用して、予約枠を大幅に削減し、日々の収益を増やします。
  • 臨床精度が最優先の場合:高周波設定を使用して顔全体をスキャンし、完璧に均一なカバレッジを確保し、見落としによる「ゼブラストライプ」効果を回避します。

10Hzの周波数は、レーザーを静的なツールから高速な機器に変え、高速な操作と高品質な臨床結果のバランスを取ります。

概要表:

運営上の利点 臨床への影響 ターゲット結果
高周波(10Hz) 高速な滑走動作 広範囲の治療時間を大幅に短縮
連続供給 エネルギーギャップを解消 「ゼブラストライプ」や未処理のスポットを防ぐ
熱蓄積 スムーズな熱蓄積 毛包の一貫した破壊
高稼働率 1日あたりの予約数増加 ROIと機器利用率の最大化
均一な分布 一貫したエネルギーフロー 安全性向上とホットスポットのリスク低減

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参考文献

  1. Josefina Royo, Mario A. Trelles. Clinical assessment of a new 755 nm diode laser for hair removal: Efficacy, safety and practicality in 56 patients. DOI: 10.1002/lsm.22618

この記事は、以下の技術情報にも基づいています Belislaser ナレッジベース .

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